欢迎访问上海乐务电子科技有限公司官方网站!

新闻分类

热门关键词

联系我们

联系信息

地址:上海浦东新区张江镇蔡伦

          路150号3号楼103室

电话:13764073119

网址:www.jianlouyi.com.cn


当前位置: 首 页 >> 新闻中心 >> 技术知识

化学气相沉积(CVD)

发布日期:2019-10-09 作者: 点击:

1.氦质谱检漏仪在真空检漏应用中,很多应用是cvd检漏,下面就cvd做一些介绍

CVD是chemical vapor deposition的缩写,也就是化学气相沉积。它是指在一定温度下,混合气体或混合气体与基材表面相互作用,在基材表面形成金属或化合物的薄膜镀层,以实现材料表面改性,满足耐磨、抗氧化腐蚀以及特定的光学、电学、摩擦学等性能要求的一种技术。

从它的名字就可以看出,CVD是建立在化学反应的基础上的。CVD涉及的化学反应有一个特点就是反应物是气态而生成物是固态(也可以理解为CVD反应除了所需的沉积物为固态,其他的均要为气态),而常涉及的反应类型包括:1、热分解反应;2、氢还原反应;3、置换或合成反应;4、化学输运反应;5、歧化反应;6、固相扩散反应。

其基本过程首先是反应气体向基片扩散,接着气体吸附于基片表面,随后反应气体在材料表面发生化学反应,反应后在材料上留下固相产物——薄膜,产生的副产物被系统抽走或向空间扩散。反应过程要在材料表面沉积形成致密的镀层,就需要将CVD反应控制在气-固交界面发生,如果在气相间反应,薄膜就以粉末形态出现。反应过程与反应产物形成同时进行,因此CVD的机理相当复杂。

化学气相沉积(CVD)的处理过程包括工件的预处理、抽真空加温活化、高温沉积反应以及后期的废气排放、冷却等,因此它的基本组成系统包括气源供给系统、沉积反应加热室、真空系统、废气排放系统、电源控制系统等等。具体的CVD装置根据反应室反应器的类型差异,可以归为基本的两类:流通式CVD与封闭式CVD。

image.png

化学气相沉积(CVD)在工业应用上极为广泛,不仅用于镀层也用于制备难熔材料的粉末与晶须,而且还可用于人工合成钻石。但一般的CVD工艺由于工艺温度过高(900~1200℃),会对一些工件造成影响,因此CVD工艺逐渐向低温、高真空方向发展,出现了等离子增强化学气相沉积(PECVD)、金属有机化学气相沉积(MOCVD)、激光化学气相沉积(LCVD)、真空化学气相沉积(UHV/CVD)、低压化学气相沉积(LPCVD)等等诸多新技术,使CVD工艺适宜的材料更为广泛。


本文网址:http://www.jianlouyi.com.cn/news/428.html

关键词:真空检漏,CVD检漏,mocvd检漏

最近浏览: